Fișier:Wafer flats convention v2.svg

De la testwiki
Sari la navigare Sari la căutare
Fișier original (Fișier SVG, cu dimensiunea nominală de 150 × 150 pixeli, mărime fișier: 13 KB)

Acest fișier provine de la Wikimedia Commons și poate fi folosit și în cadrul altor proiecte. Descrierea de mai jos poate fi consultată la pagina de descriere a fișierului.

Descriere fișier

Descriere

Wafer flats convention, based on Image:Wafer flats convention.PNG

Conventional meaning of flats in semiconductor wafers. Red denotes material that has been removed.

Wafer orientation is the orientation of the crystallographic plane in which the crystal grew. Wafer type indicated the type of doping.
Primary flat - indicates crystallographic planes of high symmetry (usually the {110} face).
Secondary flat - it's position relative to Primary flat or it's absence is indicating the doping type and the orientation of wafer.

  • Absence - p {111}
  • 90° - p {100}
  • 180° - n {100}
  • 45° - n {111}
Wafers under 200mm generally have flats indicating crystallographic planes of high symmetry (usually the {110} face) and, in old-fashined wafers (those below about 100mm diameter), the wafer's orientation and doping type. Modern wafers use a notch to convey this information, in order to waste less material. Orientation is important for wafer cleavage, and can affect other structural and electronic properties as well.
Dată
Sursă

self-made,

 Această imagine vectorială a fost creată cu Inkscape .
Autor Twisp
Alte versiuni Wafer flats convention.PNG

Licențiere

Public domain Eu, deținătorul drepturilor de autor ale acestei opere, o eliberez domeniului public. Aceasta se aplică în întreaga lume.
În anumite țări există posibilitatea ca acest lucru să nu fie legal posibil; în acest caz:
permit oricui să utilizeze această operă în orice scop, fără nicio condiție, atâta timp cât asemenea condiții nu sunt cerute de lege.

Captions

Add a one-line explanation of what this file represents

Items portrayed in this file

subiectul reprezentat

29 februarie 2008

Istoricul fișierului

Apăsați pe Data și ora pentru a vedea versiunea fișierului trimisă la momentul respectiv.

Data și oraMiniaturăDimensiuniUtilizatorComentariu
actuală24 septembrie 2013 22:40Miniatură pentru versiunea din 24 septembrie 2013 22:40150x150 (13 KB)wikimediacommons>Cepheidenfixed position of secondary flat Silicon processing for the VLSI era - Vol. 1 - Process technology; S Wolf; RN Tauber - Lattice Press; 1986; ISBN 096167237; p. 23

Următoarea pagină folosește acest fișier: